传统过孔数显著增加 条状过孔成大势所趋

　　因此，设计师将做些什么呢？即使你尽可能的充分利用里绕线系统工具，比如说，使用LEF/技术文件实现的布局中完成了约80%的过孔放置，您将仍然会错过约20%需要做的事情来优化过孔选择和布局。当然，正如您在学校学到的，这样的20%通常是最难且最具挑战性的过孔优化，造成良率影响的可能性最大。尽管有这些获得工厂认证的实用工具帮助您成功排除和纠正这些过孔问题，准确反标到设计布局文件 （DEF） 需花费多少时间和精力呢？

　　然而，还是存在着希望。最近的技术进步使得使用这些代工厂验证过的实用工具自动解决这些复杂的过孔摆放问题使其符合 DRC/DFM 规则， 而且可以把这些改变自动反标在原始的布局和布线的 DEF 中变得可行。不远的将来，设计师有可能可确保在设计流程的布局和布线阶段能够高效、准确和迅速地实现设计所需的100%过孔优化。

　　
Jean-Marie Brunet是俄勒冈州 Wilsonville 明导公司（Mentor Graphics） 可制造设计和布局布线整合产品营销总监。

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